SPECS UHV-XPS/SPM

Mit Hilfe des Specs UHV-XPS/SPM-Systems können Proben sowohl hinsichtlich ihrer chemischen Zusammensetzung (XPS) als auch bezüglich ihrer topographischen Oberflächenbeschaffenheit (STM/AFM) untersucht werden. Eine Besonderheit stellt dabei die Verwendung monochromatischer Röntgenstrahlung dar, welche zur hochauflösenden chemischen Analyse der Probenoberfläche genutzt wird. Als präparative Verfahren kommen unter anderen das Tempern und Sputtern zum Einsatz. Zudem verfügt die Anlage über zwei PVD-Apparaturen mit deren Hilfe wahlweise entweder molekulare oder metallische Schichten präpariert werden können. Für XPS- und STM-Untersuchungen kommen neben leitenden auch halbleitende Materialien in Frage. Das Rasterkraftmikroskop (AFM) erlaubt darüber hinaus auch die mikroskopische Untersuchung nicht-leitender Proben.


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